高真空膜滲透設備采用進口CKD電磁閥程序自動化控制，設計合理，操作簡單，實驗誤差小，實驗數據可靠。
高真空膜滲透設備該高真空膜滲透裝置內部閥控部件全部采用日本進口CKD電磁閥程序控制，該裝置結構布局合理，操作便捷，可實現膜滲透實驗的穩定進行。該設備工作溫度室溫8~60℃，工作壓力為0~1Mpa，真空度可低至3 Pa。設備通訊模塊皆采用rs485通訊連接，采集數據穩定，可實驗自動循環抽真空和手動抽真空等操作。
工作溫度：室溫8~60℃
真空度：3 Pa
使用壓力：0~1Mpa
高真空膜滲透設備可用于測試0-10mpa壓力范圍內的動態多元材料吸附測試；設備安裝穩定的背壓閥及氣體高壓倉，用于快速穩定的實現系統壓力穩定及氣體流速穩定。
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